David Cameron

David Cameron

Gyromitra Consulting
在 mail.muni.cz 的电子邮件经过验证
被引用次数：6550
atomic layer deposition magnetron sputtering PECVD
Angel Barranco

Angel Barranco

Senior Scientist, CSIC, Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS-CSIC-US)
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被引用次数：5379
Plasma technology Multifunctional films Nanodevices RPAVD PECVD
Xinyi Chen

Xinyi Chen

Lam Reaserch
在 umd.edu 的电子邮件经过验证
被引用次数：4650
PECVD Atomic Layer Deposition Energy storage Photocatalysis Nanomaterials
Jianliang Lin

Jianliang Lin

Southwest Research Institute
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被引用次数：4510
Thin films and coatings Surface Engineering PVD PECVD HiPIMS
H.F.W. Dekkers

HFW Dekkers

imec
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被引用次数：3339
Thin film deposition Plasma enhanced chemical vapor deposition PECVD ALD Work function metals
Steven Frederick Durrant

Steven Frederick Durrant

Associate Professor, UNESP
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被引用次数：3029
PECVD thin films analytical techniques
Johannes Peter Seif

Johannes Peter Seif

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被引用次数：2891
Crystalline Silicon Solar Cells Silicon Heterojunctions Photovoltaics PECVD
Se Youn Moon

Se Youn Moon

Professor in Jeonbuk National University
被引用次数：2772
Plasma physics plasma spectroscopy plasma processing etching PECVD
Jan Haschke

Jan Haschke

Senior Staff R&D Engineer
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被引用次数：2765
solar cell and modules metallisation PECVD wet chemistry (Si texturing)
Xin Yin (殷鑫)

Xin Yin (殷鑫)

Process Engineer, Lam Research
在 lamresearch.com 的电子邮件经过验证
被引用次数：2655
PECVD PEALD Dielectric/Metal Thin Films Growth Kinetics 2D Electronics
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