[PDF][PDF] 激光超衍射光刻原理与技术
梁紫鑫， 赵圆圆， 段宣明 - Laser & Optoelectronics Progress, 2022 - researching.cn
摘要现有主流光刻技术与设备变得越来越复杂的原因之一在于其仍然囿于线性光学光刻范畴,
未能突破光学衍射极限, 是衍射极限附近的光刻技术. 采用紫外, 可见或近红外等长波长光源进行 …
未能突破光学衍射极限, 是衍射极限附近的光刻技术. 采用紫外, 可见或近红外等长波长光源进行 …
[PDF][PDF] X 射线衍射极限纳米聚焦的前沿进展
蒋晖， 李爱国 - Acta Optica Sinica, 2022 - researching.cn
摘要基于同步辐射和自由电子激光装置的X 射线纳米聚焦技术已经成为开展前沿科学与技术
研究的重要利器. 鉴于X 射线波段纳米聚焦材料的折射率都接近于1, 故X 射线聚焦元件与传统 …
研究的重要利器. 鉴于X 射线波段纳米聚焦材料的折射率都接近于1, 故X 射线聚焦元件与传统 …
下一代曝光(NGL) 技术的现状和发展趋势
李艳秋 - 微纳电子技术, 2003 - cqvip.com
通过介绍光刻技术的演变和所面临的挑战, 揭示下一代光刻技术的发展潜力和研究现状.
通过比较几种具有较大潜力的NGL (浸没式ArF 光刻机, 极紫外光刻和电子束曝光) 的特点 …
通过比较几种具有较大潜力的NGL (浸没式ArF 光刻机, 极紫外光刻和电子束曝光) 的特点 …
激光光刻技术的研究与发展
邓常猛， 耿永友， 吴谊群 - 红外与激光工程, 2012 - cqvip.com
光刻技术作为制备半导体器件的关键技术之一将制约着半导体行业的发展和半导体器件的性能.
随着半导体工业的发展, 集成电路的特征尺寸越来越小, 光刻技术将面临新的挑战 …
随着半导体工业的发展, 集成电路的特征尺寸越来越小, 光刻技术将面临新的挑战 …
传统光学光刻的极限及下一代光刻技术
蒋文波， 胡松 - 微纳电子技术, 2008 - cqvip.com
分析了传统光学投影光刻分辨力的物理极限, 介绍了国内外各大器件和设备厂商,
科研单位等为了突破这个物理极限而做出的努力; 从原理, 发展状况及优缺点等几个方面对比 …
科研单位等为了突破这个物理极限而做出的努力; 从原理, 发展状况及优缺点等几个方面对比 …
[HTML][HTML] 双光束超分辨激光直写纳米加工技术
曹耀宇， 谢飞， 张鹏达， 李向平 - 光电工程, 2017 - cn.oejournal.org
随着纳米技术的不断发展, 各行业领域对纳米尺寸结构的加工需求与日剧增,
激光直写加工技术作为一项重要的三维微纳结构加工手段, 在多个现代科学技术领域得到了广泛 …
激光直写加工技术作为一项重要的三维微纳结构加工手段, 在多个现代科学技术领域得到了广泛 …
纳米光刻技术现状与进展
耿磊， 陈勇 - 世界科技研究与发展, 2005 - cqvip.com
随着纳米加工技术的发展, 纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础. 纳米光刻技术是制作
纳米结构的基础, 具有重要的应用前景. 文章介绍了几种极有潜力的下一代纳米光刻技术 …
纳米结构的基础, 具有重要的应用前景. 文章介绍了几种极有潜力的下一代纳米光刻技术 …