Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
ЕВ Берлин, ЛА Сейдман, ВЮ Григорьев - 2018 - elibrary.ru
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в
увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с …
увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с …
[PDF][PDF] Fabrication of high quality GaN nanopillar arrays by dry and wet chemical etching
Top down fabrication method would be suitable for producing semiconductor nanopillar
arrays for device application only when four basic requirements are satisfied:(1) control over …
arrays for device application only when four basic requirements are satisfied:(1) control over …