Array substrate for display device and method of fabricating the same
YY Kim, CI Ryoo - US Patent 8,158,466, 2012 - Google Patents
An array Substrate including a substrate havingapixel region, a gate line and a gate
electrode on the Substrate, the gate electrode being connected to the gate line, a gate …
electrode on the Substrate, the gate electrode being connected to the gate line, a gate …
Single‐phase TiO2 formation by plasma oxidation of titanium thin films
DA Rukade, V Bhattacharyya - Surface and Interface Analysis, 2015 - Wiley Online Library
Synthesis of titanium oxide film by plasma oxidization of the metallic films is investigated.
Argon/oxygen gas mixture in the pressure range 30× 10− 2 mbar is used for plasma …
Argon/oxygen gas mixture in the pressure range 30× 10− 2 mbar is used for plasma …
Termiyonik vakum ark (TVA) tekniği ile magnezyum, bor ve magnezyum borür ince filmlerinin üretilmesi ve bazı fiziksel özelliklerinin incelenmesi
MZ Balbağ - 2009 - acikbilim.yok.gov.tr
Bor ve magnezyum elementlerinin ince filmleri, Termiyonik Vakum Ark (TVA) tekniği ile ilk
kez üretilmiş ve bazı fiziksel özellikleri incelenmiştir. Üretilen ince filmlerin TVA deşarj …
kez üretilmiş ve bazı fiziksel özellikleri incelenmiştir. Üretilen ince filmlerin TVA deşarj …
[引用][C] PROSES OKSIDASI PLASMA PADA PERMUKAAN CP-TITANIUM MENGGUNAKAN METODE PLASMA LUCUTAN PIJAR
W Andriyanti, M Kusumawardani, D Priyantoro