Run-to-run process control: Literature review and extensions

E Del Castillo, AM Hurwitz - Journal of Quality Technology, 1997 - Taylor & Francis
In the last few years,“Run-to-Run”(R2R) control techniques have been developed and used
to control various semiconductor manufacturing processes. These techniques combine …

From process corners to statistical circuit design methodology: Opportunities and challenges

S Dongaonkar, SP Mudanai… - IEEE Transactions on …, 2018 - ieeexplore.ieee.org
In this paper, we will focus on the problem of modeling global or die-to-die variation in
semiconductor devices. We will demonstrate that the process corner-based approach for …

[图书][B] Полупроводниковая силовая электроника

А Белоус, А Турцевич, С Ефименко - 2021 - books.google.com
В книге представлена информация о принципах работы и основных технических
характеристиках базовых элементов силовой электроники. На практических примерах …

[图书][B] Основы силовой электроники

А Белоус, В Солодуха, С Ефименко, В Пилипенко - 2022 - books.google.com
В книге представлена информация о принципах работы, основных технических
характеристиках и технологиях изготовления полупроводниковых приборов и …

Statistical methods for the estimation of process variation effects on circuit operation

AA Mutlu, M Rahman - IEEE Transactions on Electronics …, 2005 - ieeexplore.ieee.org
In this paper, a technology computer-aided design (TCAD) driven method for accurate
prediction of the performance spread of integrated circuits due to process variations is …

[图书][B] Технология, конструкции и методы моделирования кремниевых интегральных микросхем. Часть 2

М Королев, Т Крупкина, М Путря, В Шевяков - 2014 - books.google.com
Часть вторая. Элементы и маршруты изготовления кремниевых ИС и методы их
математического моделирования. Дано представление об основных маршрутах …

[图书][B] Основы проектирования субмикронных микросхем

А Белоус, В Солодуха, Г Красников - 2022 - books.google.com
В объеме 14 глав одной книги детально и последовательно рассмотрен весь комплекс
взаимосвязанных теоретических и практических аспектов сквозного проектирования и …

A coupled-simulation-and-optimization approach to nanodevice fabrication with minimization of electrical characteristics fluctuation

Y Li, SM Yu - IEEE Transactions on Semiconductor …, 2007 - ieeexplore.ieee.org
In this paper, a simulation-based optimization methodology for nanoscale complementary
metal-oxide-semiconductor (CMOS) device fabrication is advanced. Fluctuation of electrical …

Modeling and optimizing the impact of process and equipment parameters in sputtering deposition systems using a Gaussian process machine learning framework

CI Lang, A Jansen, S Didari, P Kothnur… - IEEE Transactions on …, 2021 - ieeexplore.ieee.org
We present a method for empirically modeling and optimizing variations in sputtering
deposition processes using Gaussian Process (GP) machine learning methods. Our …

Comparison of optimization by response surface methodology with neurofuzzy methods

Z Malik, K Rashid - IEEE transactions on magnetics, 2000 - ieeexplore.ieee.org
We compare two approaches where empirical models are used to augment computer
simulations to facilitate rapid device optimization. We apply the response surface model …